2017年10月12日-13日，首屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)在北京國際會(huì)議中心舉行，由集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟主辦，中國科學(xué)院微電子研究所承辦，中芯國際(SMIC)、長江存儲(chǔ)(YMTC)、華虹集團(tuán)、Mentor、ASML、KLA Tencor、南大光電(Nata)、上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(SMEE)、Synopsys、Toppan、JSR、東方晶源、沈陽芯源贊助。會(huì)議共有200余人參會(huì)，分別來自中國、美國、德國、日本等世界各地眾多名企、廠商、科研機(jī)構(gòu)、高校等。我公司董事秦怡生、副總經(jīng)理?xiàng)罱▏鴧⒓恿吮敬窝杏憰?huì)。
大會(huì)主席、集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟理事長、科技部原副部長曹健林，國家外專局原局長馬俊如，科技部重大專項(xiàng)辦副巡視員、02專項(xiàng)實(shí)施管理辦公室副主任邱鋼先后為大會(huì)致開幕詞，大會(huì)副主席、中科院微電子研究所所長葉甜春就當(dāng)前行業(yè)趨勢(shì)做了分析報(bào)告，大會(huì)秘書長、中科院微電子研究所計(jì)算光刻研發(fā)中心主任韋亞一研究員主持開幕式。按照大會(huì)安排，在這兩天的時(shí)間里，來自Intel、IBM、Qualcomm(高通)、AMD、ASML、SMIC等公司的特邀嘉賓分別就擬定的主題做了特邀報(bào)告，深入分析了光刻領(lǐng)域先進(jìn)節(jié)點(diǎn)的技術(shù)手段和解決方案，內(nèi)容豐富，包含7nm及以下節(jié)點(diǎn)的計(jì)算光刻技術(shù)、SMO、DTCO、EUV、DSA、Design rules、光刻設(shè)備、材料等。會(huì)后，參會(huì)嘉賓進(jìn)行合影留念。
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